Figure1二维硅醚结构示意图硅醚是间接带隙半导体（能隙：济南1.89eV），在单轴应变作用下可以触发间接-直接-间接带隙转变。

我们选用Ag(100)作为衬底，市城市公设高二硅氧烷分子在衬底上的连续脱氢的活化势垒均低于1.02eV。前期研究结果表明表面化学修饰（如氧化）可以有效钝化硅烯表面，园管园内增强其稳定性，而且这种方式还能打开一个较大带隙。

理办楼被编辑选为当期热点文章（NanoscaleAdvancesHOTArticleCollection）。引言硅烯在实际应用中存在一些严重问题：法印（1）硅烯是无带隙的狄拉克半金属，法印限制了其在晶体管领域的应用;（2）硅烯在空气中容易氧化，导致其很难从衬底上分离。由于硅醚层间相互作用微弱，档餐双层硅醚还具有相当大的带隙和间接带隙特性，并且易于剥离。

成果简介南京邮电大学刘春生教授课题组基于二硅氧烷分子（SiH3OSiH3）组装设计了一种新型的氧化硅烯材料，馆茶将其命名为硅醚（silicether）。Figure1二维硅醚结构示意图硅醚是间接带隙半导体（能隙：济南1.89eV），在单轴应变作用下可以触发间接-直接-间接带隙转变。

市城市公设高Figure2 硅醚能带及其在应变下的变化趋势本文由作者团队供稿。

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